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美光232层堆栈的TLC闪存正式量产

发布时间:2022/07/28 产业 浏览次数:35

据报道,7月27日消息,今年5月,存储芯片大厂美光(Micron)发布了业界首个232层堆栈的3DNAND芯片,昨日晚间,美光宣布其232层堆栈的TLC闪存正式量产。这是全球首个量产的超过200层的闪存,也是业界密度最高的,接口速度提升到2.4GB/s,写入速度提升100%。

美光技术和产品执行副总裁ScottDeBoer表示232层闪存是存储芯片创新的分水岭,首次证明了3D闪存有扩展到200层以上的能力。

具体来说,这款232层堆栈的3DNAND采用的是3DTLC架构,原始容量为1Tb(128GB),该存储器基于美光的CuA架构,并使用NAND字符串堆栈技术,在彼此的顶部建立两个3DNAND阵列。

而在CuA设计的232层堆栈的3DNANDFlash中,将大大减少美光1Tb3DTLCNANDFlash的尺寸,提升存储密度。

据介绍,该232层TLC闪存是有史以来密度最高的,达到了14.6Gb/mm2,比当前的TLC闪存高出35-100%,而且232层闪存使用了11.5×13.5mm封装,尺寸比前代产品小了28%,是市面上最小面积的高密度闪存,可以减少对电路板空间的占用。同时有利于降低生产成本。

该232层闪存还是全球首个六平面TLC闪存,在TLC闪存中平面最多,而且每个平面都可以独立读取,高IO速度、低延迟及六平面结构相结合使得232层闪存可以提供一流的数据传输能力。

美光表示其232层TLC闪存引入了业内最快的IO速度,可达2.4GB/s,比上代的176层闪存高出50%,同时写入带宽提升100%,读取带宽提升75%。

此外,美光的232层闪存还是首款支持NV-LPDDR4,后者是一种低压接口,相比之前的I/O接口,每比特的能效提升30%以上。

目前美光的232层闪存已经在新加披工厂量产,最初会由美光旗下的英睿达品牌推出消费级SSD,后续将会推出其他产品。

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